11月27日消息，牽涉竊密作為世界最先進(jìn)的技術(shù)巨頭積電半導(dǎo)體芯片代工廠，臺(tái)積電的案日技術(shù)機(jī)密很容易成為別人的目標(biāo)，最近的本半一個(gè)例子是前高管羅唯仁跳槽Intel引發(fā)的，前兩個(gè)月的導(dǎo)體例子則牽涉日本半導(dǎo)體巨頭。

這家公司就是選臺(tái)日本KEL威力科創(chuàng)，該公司的優(yōu)秀一名陳姓員工原本在臺(tái)積電工作，離職后加入TEL，牽涉竊密但仍通過(guò)之前的技術(shù)巨頭積電同事關(guān)系獲取了臺(tái)積電大量技術(shù)信息，就有2nm工藝的案日重要信息，最終觸發(fā)臺(tái)積電監(jiān)控，本半隨后被抓，導(dǎo)體8月份宣判。選臺(tái)

事發(fā)之后，優(yōu)秀威力科創(chuàng)已經(jīng)開除了這名員工，牽涉竊密并且日前再次發(fā)表公告稱經(jīng)該公司內(nèi)部調(diào)查，截至目前未發(fā)現(xiàn)相關(guān)機(jī)密信息外泄至第三方，亦未發(fā)現(xiàn)有組織性地指示該名前員工獲取不當(dāng)信息的行為。

之后傳聞TEL高管、社長(zhǎng)等高層兩次去臺(tái)積電負(fù)荊請(qǐng)罪，然而這件事多少還是影響了他們與臺(tái)積電的關(guān)系，日前臺(tái)積公布了優(yōu)秀供應(yīng)商名單，TEL公司就沒(méi)有位列其中。

臺(tái)積電在日前的供應(yīng)鏈管理論壇上公布的這份名單，主要是表彰合作伙伴在推動(dòng)2nm等先進(jìn)制程與封裝技術(shù)的研發(fā)、優(yōu)化及產(chǎn)能擴(kuò)建工作中的重要作用，并持續(xù)助力臺(tái)積電拓展全球生產(chǎn)布局。

這些企業(yè)名單中，步伐ASML、應(yīng)用材料、KLA、Lam科林等全球半導(dǎo)體巨頭，TEL作為三大蝕刻機(jī)供應(yīng)商之一，之前也不是沒(méi)中選過(guò)，但是這次落選顯然不是他們的產(chǎn)品不行，這次的竊密案多少影響了他們的評(píng)價(jià)。

不過(guò)臺(tái)積電也不太可能完全取消與KEL的合作，能夠生產(chǎn)用于2nm及未來(lái)工藝蝕刻機(jī)的廠商并不多，放棄TEL意味著只能選KLA、LAM兩家美國(guó)公司，顯然這也不利于臺(tái)積電與廠商博弈。

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